一种容性耦合装置及滤波器
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摘要
本实用新型公开了一种容性耦合装置及滤波器。它至少包括第一介质谐振器和第二介质谐振器，所述第一介质谐振器与第二介质谐振器之间设有负耦合孔，所述负耦合孔包括纵向盲孔和横向盲槽，所述纵向盲孔位于第一介质谐振器与第二介质谐振器连接位置的本体表面且垂直于所述本体表面布置，所述横向盲槽位于第一介质谐振器与第二介质谐振器连接位置的本体上。本实用新型容性耦合装置在两个介质谐振器之间设置纵向盲孔和横向盲槽形成负耦合孔，实现两个介质谐振器之间的负耦合，结构简单；该结构用于滤波器中，由于两个孔形成的面积更大，可以在滤波器的通带低端形成传输零点，增加了滤波器的矩形系数，从而提高滤波器性能，降低滤波器的体积。
基本信息
专利标题 ：
一种容性耦合装置及滤波器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021310626.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-06
授权号 ：
CN212783727U
授权日 ：
2021-03-23
发明人 ：
刘文钟伟刚朱晖
申请人 ：
武汉凡谷陶瓷材料有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市江夏区藏龙岛工业园九凤街5号凡谷电子工业园
代理机构 ：
武汉开元知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄行军
优先权 ：
CN202021310626.X
主分类号 ：
H01P1/208
IPC分类号 ：
H01P1/208 H01P7/10
法律状态
2021-03-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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