一种容性耦合装置及滤波器
授权
摘要
本实用新型公开了一种容性耦合装置及滤波器。它包括相互连接的两个介质谐振器，两个介质谐振器的顶面分别设有调谐盲孔，两个介质谐振器之间设有第一隔断层，两个调谐盲孔分别位于所述第一隔断层的两侧，至少一个介质谐振器上设有负耦合区域，所述负耦合区域上设有贯穿该介质谐振器的负耦合孔，所述负耦合孔内壁设有导电层，一个介质谐振器上的负耦合孔与另一个介质谐振器上的调谐盲孔之间设有连接段。本实用新型在通过负耦合孔与相邻的另一介质谐振器上的调谐盲孔实现两个介质谐振器之间的负耦合，负耦合孔设置在单独的一个介质谐振器上，布置位置可以在介质谐振器上自由选择，不受整体结构的限制，加工更方便。
基本信息
专利标题 ：
一种容性耦合装置及滤波器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020124290.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-19
授权号 ：
CN211428316U
授权日 ：
2020-09-04
发明人 ：
刘文钟伟刚朱晖刘雄
申请人 ：
武汉凡谷陶瓷材料有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市江夏区藏龙岛工业园九凤街5号凡谷电子工业园
代理机构 ：
武汉开元知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄行军
优先权 ：
CN202020124290.1
主分类号 ：
H01P1/20
IPC分类号 ：
H01P1/20
法律状态
2020-09-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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