氯硅烷残液的预处理系统
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摘要

本实用新型公开了一种氯硅烷残液的预处理系统,所述系统包括:氯硅烷残液设备、氮气储罐和液氨供给单元,所述氯硅烷残液设备内自上而下形成排气区、反应区和进料区,并且所述进料区和所述反应区之间设有滤网,所述排气区设有氮气入口和尾气出口,所述进料区设有液态料出口;所述氮气储罐通过第一输气管道与所述氮气入口相连,并且所述第一输气管道上设有第一阀门;所述液氨供给单元包括依次相连的液氨储罐、气化器和减压阀,所述减压阀通过第二输气管道与所述进料区相连,并且所述第二输气管道上设有第二阀门。采用该系统可以解决现有氯硅烷残液设备在检修时氯硅烷残液氮气置换时间长、检修作业烟雾大和残渣处理烟雾大的问题。

基本信息
专利标题 :
氯硅烷残液的预处理系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020124449.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-19
授权号 :
CN211920882U
授权日 :
2020-11-13
发明人 :
曾晓国万烨张伟张晓伟孙强周志强鲁永洁
申请人 :
中国恩菲工程技术有限公司;洛阳中硅高科技有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区复兴路12号
代理机构 :
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
宋合成
优先权 :
CN202020124449.X
主分类号 :
C01B33/107
IPC分类号 :
C01B33/107  C01B33/035  C01B9/02  C01C1/16  C01B21/087  B01D36/00  B01D53/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素;其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/08
含卤素的化合物
C01B33/107
卤化硅烷
法律状态
2020-11-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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