在光谱仪中使用的等离子体源室及光谱仪
授权
摘要
本实用新型提供一种在光谱仪中使用的等离子体源室，包含用于容纳等离子体源的内壳体和容纳所述内壳体的外壳体。所述外壳体包含在第一壁中的至少一个外进气口开口以及在第二壁中的至少一个外排气口开口。所述内壳体的壁和所述外壳体的壁界定了间隙，从而允许第一空气流穿过所述内壳体和所述外壳体之间的所述间隙从所述至少一个外进气口开口到所述至少一个外排气口开口。所述内壳体包含在第一壁中的至少一个内进气口开口以及在第二壁中的至少一个内排气口开口，以允许第二空气流穿过所述内壳体从所述至少一个内进气口开口到所述至少一个内排气口开口。因此，实现了对等离子体源室外表面的改进冷却。本实用新型还提供一种光谱仪。
基本信息
专利标题 ：
在光谱仪中使用的等离子体源室及光谱仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020277227.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-09
授权号 ：
CN211350573U
授权日 ：
2020-08-25
发明人 ：
N·夸斯A·穆塔津S·盖斯勒T·沃尔夫J·拉斯坎普D·沃勒斯M·斯柯布林
申请人 ：
塞莫费雪科学(不来梅)有限公司
申请人地址 ：
德国不来梅
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
江漪
优先权 ：
CN202020277227.1
主分类号 ：
H01J49/02
IPC分类号 ：
H01J49/02 H01J49/10 G01N21/01
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J49/00
粒子分光仪或粒子分离管
H01J49/02
零部件
法律状态
2020-08-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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