一种光谱仪真空室结构
授权
摘要
本实用新型涉及光谱仪技术领域，具体为一种光谱仪真空室结构，其结构设置合理，其包括箱体，所述箱体内设置有真空室，所述真空室内设置有导轨支架，其特征在于，所述真空室左侧为平面、右侧为弧面加斜面、前端和后端分别为与所述弧面和所述斜面连接的平面，所述导轨支架包括导轨底座，所述导轨底座为四分之一圆弧状，所述导轨底座上安装有弧形导轨，所述弧形导轨内侧的所述导轨底座上开设有成弧形布置的定位孔，所述弧形导轨上设置有滑动座，所述滑动座上开设有与所述定位孔配合的腰型孔，所述滑动座通过穿过所述腰型孔、定位孔的螺栓固定，所述滑动座上设置有安装架。
基本信息
专利标题 ：
一种光谱仪真空室结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021611687.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-06
授权号 ：
CN212931658U
授权日 ：
2021-04-09
发明人 ：
叶春晖叶反修史先春
申请人 ：
无锡市金义博仪器科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山区钱桥开发区景盛路35号
代理机构 ：
无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
顾朝瑞
优先权 ：
CN202021611687.X
主分类号 ：
G01J3/02
IPC分类号 ：
G01J3/02 G01J3/28 G01N21/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法；分光光度测定法；单色器；测定颜色
G01J3/02
零部件
法律状态
2021-04-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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