具有抽气延伸装置之PVD镀膜设备
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摘要
本创作为一种具有抽气延伸装置之PVD镀膜设备，其包括有呈长形的镀膜模块，其包括有信道、连通信道的镀膜腔室、连通信道的两抽气腔室、装设于镀膜腔室内的给气装置，以及相对的两端，镀膜腔室介于两抽气腔室之间，各抽气腔室包括有腔室、贯穿腔室的抽气孔及罩盖抽气孔的抽气延伸装置，抽气延伸装置包括有连通腔室内的开口及连通开口及抽气孔的容置空间，其中一抽气腔室之抽气延伸装置的开口邻近且朝向镀膜模块的一端，另一抽气腔室之抽气延伸装置的开口邻近且朝向镀膜模块的另一端；本创作的两抽气腔室设有分别罩盖抽气孔的抽气延伸装置，避免载具承载欲镀膜的基材在镀膜模块的信道移动时遮挡住抽气孔，使信道的流场分布均匀。
基本信息
专利标题 ：
具有抽气延伸装置之PVD镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020338613.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-05
授权号 ：
CN214458282U
授权日 ：
2021-10-22
发明人 ：
高瑞三
申请人 ：
众鼎瑞展电子科技（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区沙井壆岗大壆工业区环镇南路A5-11
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020338613.7
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-10-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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