半导体显示衬底的化学清洗设备
授权
摘要
本实用新型属于半导体衬底技术领域，提供了一种半导体显示衬底的化学清洗设备，包括清洗槽、清洗治具和驱动机构，清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架和多个放置结构，驱动机构用于驱动清洗治具作上下往复直线运动。本实用新型所提供的半导体显示衬底的化学清洗设备，清洗效率较高。
基本信息
专利标题 ：
半导体显示衬底的化学清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020348017.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-18
授权号 ：
CN211965189U
授权日 ：
2020-11-20
发明人 ：
陆雄王文彬魏航陶金周文
申请人 ：
重庆芯洁科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市九龙坡区西彭镇西彭园区D40标准厂房5号楼
代理机构 ：
北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
韩璐
优先权 ：
CN202020348017.7
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10 B08B13/00 B08B3/08
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2020-11-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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