用于半导体显示衬底的超声波清洗设备
授权
摘要
本实用新型属于半导体显示衬底清洗设备技术领域，提供了一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽、超声波发生装置、清洗治具和驱动机构，超声波发生装置设置在清洗槽内，清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架、两个支撑板和锁定结构，两个支撑板分别设置在安装框架内侧的两端、并与安装框架滑动连接，且两个支撑板的相对的一侧分别设置有相互配合的V形槽，锁定结构用于锁定两个支撑板的位置，驱动机构用于驱动清洗治具做上下往复直线运动。本实用新型所提供的用于半导体显示衬底的超声波清洗设备清洗效率高。
基本信息
专利标题 ：
用于半导体显示衬底的超声波清洗设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020347159.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-18
授权号 ：
CN211938193U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
陆雄王文彬魏航陶金周文
申请人 ：
重庆芯洁科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市九龙坡区西彭镇西彭园区D40标准厂房5号楼
代理机构 ：
北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
韩璐
优先权 ：
CN202020347159.1
主分类号 ：
B08B3/12
IPC分类号 ：
B08B3/12 B08B3/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
B08B3/12
用声波或超声波振动的（声波或超声波陶器或餐具清洗或冲洗机入A47L15/13；使用超声波技术清洗或冲洗天然牙、假牙或类似于天然牙的入A61C17/20；超声波振动用于一般化学、物理，或物理化学过程中的入B01J19/10
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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