本实用新型公开了一种半导体化学清洗设备，涉及半导体清洗技术领域。本实用新型包括壳体，所述壳体的内腔下部设置有镂空隔板，镂空隔板的顶端对称设置有限位条，壳体的内腔下部设置有转轴，转轴的轴壁对称设置有搅动板，搅动板上均设置有若干通孔，通孔内均设置有扇叶，镂空隔板的顶端两侧对称设置有滑槽，滑槽滑动连接有推板，推板的顶端设置有推动杆，壳体的顶端设置有与推动杆相匹配的通槽，推动杆的上部且位于通槽的上方设置有限位块。本实用新型通过镂空隔板、搅动板和推板的配合作用，有效解决了半导体篮静止过程中的反应速率不均匀和提拉半导体篮过程中产生碰撞的问题，从而保证了清洗过程中的清洗效果和成品率。