一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶及镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶及镀膜设备，其中圆柱靶包括靶材和靶芯，靶芯的外部设有防水密封套管，靶芯的顶部和/或底部设有密封套环，靶芯的进水口和/或出水口处设有密封水管。本实用新型靶芯外部设置防水密封套管，在靶芯的顶部和底部设置密封套环，进水管的出水口处设置密封水管，冷却水从进水管导流到防水密封套管外，使冷却水充盈在防水密封套管和靶材之间，最终从回水口排除，通过冷却水的循环流通实现对靶材进行冷却的功能。本结构能确保靶芯不会被腐蚀，靶材表面的磁性不会发生变化，提高靶材表面的冷却均匀性，保持靶材镀膜状态一致，提高产品品质，有利于提高镀膜设备的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种避免靶芯接触冷却水的圆柱靶及镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020372391.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-20
授权号 ：
CN211689225U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
战永刚
申请人 ：
深圳市三束镀膜技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区福城街道福民社区核电工业园5号101
代理机构 ：
深圳市中科创为专利代理有限公司
代理人 ：
彭涛
优先权 ：
CN202020372391.0
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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