一种上电极设备以及等离子体处理装置
授权
摘要
本申请实施例提供了一种上电极设备以及等离子体处理装置，所述上电极设备应用于等离子体处理装置中，所述上电极设备用于对反应气体进行加压，以将所述反应气体激发成等离子态并作用于待处理晶圆上；所述上电极设备包括：第一部分，所述第一部分为所述上电极设备的中心部分；其中，所述第一部分包括面向所述待处理晶圆凸出的第一表面区域，所述第一表面区域在第一方向上的宽度大于第二方向上的宽度，所述第一方向和所述第二方向为沿所述上电极设备平面方向延伸的两彼此垂直的方向。
基本信息
专利标题 ：
一种上电极设备以及等离子体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020388740.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-24
授权号 ：
CN211957595U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
郑亮刘青松豆海清卢刚张光轩曾最新
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘鹤
优先权 ：
CN202020388740.8
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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