一种电化学沉积装置
授权
摘要
本实用新型实施例提供了一种电化学沉积装置，包括：第一槽体，所述第一槽体用于进行电化学沉积，所述第一槽体内设有相对间隔设置的阳极和阴极，所述阳极和所述阴极之间的间距可调；第二槽体，所述第二槽体与所述第一槽体相连，所述第一槽体内的溶液可流入所述第二槽体，所述第二槽体的出液口连接有过滤器，所述过滤器用于对所述溶液进行过滤；以及喷流系统，所述喷流系统的进液端与所述过滤器连接，所述喷流系统的出液端设置在所述第一槽体内。本实用新型实施例所述的电化学沉积装置可以提高镀膜的厚度均匀性，而且，溶液净化效果较好，可以提高镀膜的质量。
基本信息
专利标题 ：
一种电化学沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020419147.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-27
授权号 ：
CN211689276U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
张国才曹占锋闫俊伟麦轩伟王大军王宏董士豪
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京润泽恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
李娜
优先权 ：
CN202020419147.5
主分类号 ：
C25D17/00
IPC分类号 ：
C25D17/00 C25D21/12 C25D21/06 C25D21/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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