电极结构和电化学沉积设备
授权
摘要
本实用新型实施例提供一种用于电化学沉积设备中的电极结构，包括：支撑架；设置在所述支撑架上的金属网和多个导电条，所述导电条与所述金属网电连接，所述导电条包括：导电主体和包覆所述导电主体的保护层，所述导电主体的导电率大于所述保护层的导电率。本实用新型还提供一种电化学沉积设备。本实用新型能够提高电化学沉积的成膜均匀性。
基本信息
专利标题 ：
电极结构和电化学沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020753538.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-09
授权号 ：
CN212505140U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
袁广才闫俊伟张国才王成飞董士豪曹占锋孙少东麦轩伟王大军
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
魏艳新
优先权 ：
CN202020753538.0
主分类号 ：
C25D17/12
IPC分类号 ：
C25D17/12 C25D21/06 C25D21/12 C25D21/14 C25D21/10 C25D5/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
C25D17/10
电极
C25D17/12
形状或类型
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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