电极间隔离结构、气相沉积设备和石墨舟
授权
摘要
本实用新型实施例提供了一种电极间隔离结构、气相沉积设备和石墨舟，所述电极间隔离结构包括：内隔离管；以及外隔离管，套设于所述内隔离管外，所述外隔离管的长度小于所述内隔离管，且所述外隔离管在所述内隔离管表面上的垂直投影位于所述内隔离管表面内，并且所述内隔离管的外壁与所述外隔离管的内壁间隔设置以使得所述内隔离管的外壁与所述外隔离管的内壁之间形成缝隙。
基本信息
专利标题 ：
电极间隔离结构、气相沉积设备和石墨舟
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922185319.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-09
授权号 ：
CN211079329U
授权日 ：
2020-07-24
发明人 ：
叶继春闫宝杰曾俞衡王玉明程海良陈晖廖明墩谢利华李旺鹏
申请人 ：
苏州拓升智能装备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇金枫南路1258号B3幢二楼
代理机构 ：
北京金智普华知识产权代理有限公司
代理人 ：
皋吉甫
优先权 ：
CN201922185319.7
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50 H01L21/673
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2020-07-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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