一种适用于高厚径比通孔PCB的VCP镀铜系统
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摘要

本实用新型公开一种适用于高厚径比通孔PCB的VCP镀铜系统,包括前段铜槽、后段铜槽、铜挂架、铜导轨、前段竖直架体、后段水平架体和后段竖直架体,前段竖直架体安装在前段铜槽的内部下端,前段竖直架体上设置有若干前段竖直杆,每个前段竖直杆上安装有若干前段竖直喷管,后段水平架体与后段竖直架体均安装在后段铜槽的内部下端,后段水平架体上设置有若干后段水平杆,每个后段水平杆上安装有若干高压水平喷管,后段竖直架体上设置有若干后段竖直杆,每个后段竖直杆上安装有若干高压竖直喷管。该适用于高厚径比通孔PCB的VCP镀铜系统对高厚径比的PCB通孔进行补偿电镀,能够极大提高深镀贯孔能力,加大电流密度,提高生产效率。

基本信息
专利标题 :
一种适用于高厚径比通孔PCB的VCP镀铜系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020980020.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-02
授权号 :
CN212293786U
授权日 :
2021-01-05
发明人 :
彭云胡祥建
申请人 :
东莞市维迅机械科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市塘厦镇沙湖村麒麟岭路1号C栋1楼
代理机构 :
深圳市千纳专利代理有限公司
代理人 :
刘晓敏
优先权 :
CN202020980020.0
主分类号 :
C25D5/18
IPC分类号 :
C25D5/18  C25D5/08  C25D17/00  C25D17/02  C25D17/08  C25D7/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D5/00
以工艺方法为特征的电镀;工件的预处理或后处理
C25D5/18
使用调制电流、脉冲电流或换向电流的电镀
法律状态
2021-01-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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