掩模版泡酸去胶后的专用夹具
授权
摘要
本实用新型公开了掩模版泡酸去胶后的专用夹具，涉及电柜进出线保护用辅助装置技术领域，为解决现有的掩模版泡酸去胶后的专用夹具在对掩膜版进行固定时不够牢固而导致掩膜版脱落的问题。所述固定底座的内部设置有限位横块活动槽，所述限位横块活动槽的内部设置有限位横块，且限位横块的下端与限位横块活动槽通过缓冲弹簧固定连接，所述缓冲弹簧设置有两个，所述限位横块的上端设置有支撑柱，两个所述支撑柱的中间位置处设置有引接块，所述引接块的下方设置有酸性液存储箱，所述酸性液存储箱的一侧设置有把手，且把手与酸性液存储箱焊接连接。
基本信息
专利标题 ：
掩模版泡酸去胶后的专用夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021071906.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-11
授权号 ：
CN212623574U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
郁镇宇
申请人 ：
无锡灿晶微电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市梁溪区学前东路789号709室
代理机构 ：
南京禾易知识产权代理有限公司
代理人 ：
翁亚娜
优先权 ：
CN202021071906.X
主分类号 ：
G03F7/38
IPC分类号 ：
G03F7/38
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/38
去除影像之前的处理，例如，预烘干
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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