光子去胶机
专利申请的视为撤回
摘要
光子去胶机在工作室(1)内的上方有一紫外光源(3)，光源(3)的上方有一反光片(2)，光源的下方有一样品支架(5)。本发明是一种非接触式的干法去胶装置，去胶彻底，无需用擦拭等补充手段去除残胶，不会产生因擦拭不当等原因造成的衬底表面损坏，特别适用于半导体制造业。
基本信息
专利标题 ：
光子去胶机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1105457A
申请号 ：
CN94100074.5
公开（公告）日 ：
1995-07-19
申请日 ：
1994-01-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
谈凯生
申请人 ：
中国科学院电子学研究所
申请人地址 ：
100080北京市中关村路17号
代理机构 ：
中科院专利事务所
代理人 ：
戎志敏
优先权 ：
CN94100074.5
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 H01L21/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
1998-02-11 ：
专利申请的视为撤回
1995-07-19 ：
公开
1994-08-31 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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