掩模去胶通用耐酸手臂
授权
摘要
本实用新型公开了掩模去胶通用耐酸手臂，包括臂管，所述臂管底端表面开设有连接孔，所述连接孔顶端开设有贯穿孔,所述贯穿孔与臂管内壁相互贯通，所述连接孔内部顶端设置有第一密封垫，所述臂管底端设置有第一扇形喷头，所述第一扇形喷头顶端分别设置有加固环、密封环以及第二密封垫，所述第一扇形喷头贯穿加固环、密封环以及第二密封垫，所述密封环位于加固环顶端；通过将臂管长度设置为八厘米、将相邻两个连接孔间距设置为一点二厘米以及在连接孔加装第一扇形喷头，克服去胶五寸以及六寸掩模板需多次去胶的麻烦，能对不同的尺寸掩模板进行有效快速清除，不会再出现边角处无法去胶干净需二次去胶的麻烦，适应范围广，安全可靠。
基本信息
专利标题 ：
掩模去胶通用耐酸手臂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922429005.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-29
授权号 ：
CN211603844U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
张月圆薛文卿朱磊
申请人 ：
无锡中微掩模电子有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新区菱湖大道202号
代理机构 ：
连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
谷金颖
优先权 ：
CN201922429005.7
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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