一种硅片清洗制绒装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及硅片制造技术领域,且公开了一种硅片清洗制绒装置,包括装置本体,所述装置本体的内底壁上设有储水箱,所述装置本体的右侧固定连接有水泵,所述水泵的右侧设有固定座,所述固定座的右侧固定连接有连接块,所述连接块的内部铰接有调节把手。该硅片清洗制绒装置,通过设置收集罐,便于储存该装置产生的废水,再通过设置启动水泵,可将储水箱内部的废水通过连接管和输水管输送至收集罐中,当收集罐移动到指定位置时,然后通过设置控制阀控制收集罐内部的废水从排水管和第二排水管排出,达到了便于收集废水的效果,从而有效的解决了该装置不便于收集废水不仅会产生水资源的浪费还会影响周围环境的问题。

基本信息
专利标题 :
一种硅片清洗制绒装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021086582.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-13
授权号 :
CN211980581U
授权日 :
2020-11-20
发明人 :
江水德
申请人 :
衢州三盛电子有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市开化县华埠镇银辉路9号
代理机构 :
北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张铁兰
优先权 :
CN202021086582.7
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  H01L31/18  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-06-07 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20200613
授权公告日 : 20201120
终止日期 : 20210613
2020-11-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN211980581U.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332