一种具有辅助进气装置的气相外延炉
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摘要

本实用新型公开了一种具有辅助进气装置的气相外延炉,包括气相外延炉本体,所述气相外延炉本体的顶部连通有进气管,所述进气管的顶端设置有过滤机构,所述进气管的内腔设置有风机本体,所述风机本体的表面设置有固定机构,所述固定机构的两侧均设置有滑块。本实用新型通过固定机构的设置,可以将外部空气抽入气相外延炉本体的内腔,通过转动旋钮,最终使得上方插杆与下方插杆分别脱离上方和下方的内腔,进而对盖板和滑块同步解锁,即可依次将盖板和风机本体拆卸,该具有辅助进气装置的气相外延炉,具备便于拆装的优点,提高了气相外延炉本体的进气效率,进一步提高了该气相外延炉的工作效率。

基本信息
专利标题 :
一种具有辅助进气装置的气相外延炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021107985.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-18
授权号 :
CN212451743U
授权日 :
2021-02-02
发明人 :
王作义马洪文魏关成高万智杨虎陈小铎
申请人 :
上海广奕电子科技股份有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区郭守敬路351号2号楼A644-28室
代理机构 :
北京卫智畅科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈佳
优先权 :
CN202021107985.5
主分类号 :
C30B25/08
IPC分类号 :
C30B25/08  C30B25/14  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长,例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/08
反应室;其所用材料的选择
法律状态
2021-02-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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