一种扩散炉炉口排风装置
授权
摘要
本实用新型涉及扩散炉技术领域，且公开了一种扩散炉炉口排风装置，解决了目前扩散炉生产加工过程中泄露的废气容易在炉口处冷凝形成腐蚀性废液的问题，其包括炉口插管，所述炉口插管的一端固定安装有废气收集罩，废气收集罩一侧的中部开设有开口，开口的内部固定安装有套管，废气收集罩顶部的两端均固定安装有废气排出管，两个废气排出管的一侧均安装有排气风机，废气收集罩底部的中部固定安装有锥形废液收集斗，锥形废液收集斗的底部安装有收集瓶；本扩散炉炉口排风装置能够安全的对泄漏废气进行处理，以及能够对废气冷凝的腐蚀性废液进行有效的收集和处理，从而能够有效的对扩散炉进行防护，避免了泄露废气影响扩散炉的有效和安全使用。
基本信息
专利标题 ：
一种扩散炉炉口排风装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021200500.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-26
授权号 ：
CN212136397U
授权日 ：
2020-12-11
发明人 ：
刘明利于洋
申请人 ：
青岛赛尔微电子有限公司
申请人地址 ：
山东省青岛市即墨市通济街道办事处邢家岭村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021200500.7
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-12-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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