一种光刻装置的双工位移动平台
授权
摘要
本实用新型属于光刻设备技术领域，具体涉及一种光刻装置的双工位移动平台，包括底座、传送机构、第一龙门架和第二龙门架，所述传送机构包括安装在底座上的第一传送装置和第二传送装置，所述第一传送装置和第二传送装置均采用非接触式传送装置，以非接触状态保持晶圆的移动；所述第一龙门架和第二龙门架在底座上按照传送机构的传送方向依次固设在底座上，所述第一龙门架上安装有第一线性导轨和对位相机，所述第二龙门架上安装有第二线性导轨和光刻镜头；克服了现有技术的不足，在传统光刻设备的上进行改进，设置交替进料的两个气浮式传送装置，实现双工位操作，提高晶圆的光刻效率。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻装置的双工位移动平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022044957.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-17
授权号 ：
CN212675360U
授权日 ：
2021-03-09
发明人 ：
李文静顾科占李全统
申请人 ：
安徽国芯智能装备有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市包河经济开发区重庆路与兰州路交叉口中关村协同创新智汇园D3栋1楼
代理机构 ：
合肥律众知识产权代理有限公司
代理人 ：
秦超
优先权 ：
CN202022044957.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-03-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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