一种二极管跳线吸取装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种二极管跳线吸取装置，它包括底座，所述底座上设置有一组吸嘴支座，所述吸嘴支座上均匀设置有若干吸嘴，所述底座上内开设有一组进气口，所述吸嘴支座内部设置有气道，所述进气口与气道连通，所述吸嘴内部设置有真空槽，所述真空槽贯穿吸嘴并与气道连通，所述吸嘴的顶部设置有第一凸台和第二凸台，所述第一凸台和第二凸台分别位于真空槽的两侧。本实用新型提供一种二极管跳线吸取装置，采用高低凸台吸嘴，有效解决跳线放置偏移、放置不到位等一系列问题。
基本信息
专利标题 ：
一种二极管跳线吸取装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022198367.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN212967658U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
王连慧王玉桃刘亚东
申请人 ：
常州银河世纪微电子股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市新北区长江北路19号
代理机构 ：
常州市科谊专利代理事务所
代理人 ：
孙彬
优先权 ：
CN202022198367.2
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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