一种半导体制冷片清洗槽
授权
摘要

本实用新型公开了一种半导体制冷片清洗槽,包括槽体和顶盖,槽体顶端的一侧与顶盖的一侧铰接,槽体内壁两侧的中部均开设有滑槽,槽体底部的两侧均固定连接有电动升降柱,两个电动升降柱的顶端均固定连接有连接板,两个连接板一侧分别固定连接在清洗支架两端的中部,两个连接板分别与两个滑槽滑动连接,清洗支架的内侧均匀固定连接有若干收纳槽,本实用新型一种半导体制冷片清洗槽,收纳槽可升降,方便存放和取出半导体制冷片,先使用冲洗喷头对半导体制冷片进行冲洗,再对半导体制冷片进行清洗,最后再次冲洗,清洗的更加彻底,密封圈可以对电动升降柱的中部进行密封,避免清洗水渗入电动升降柱与槽体安装的间隙内部。

基本信息
专利标题 :
一种半导体制冷片清洗槽
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022233063.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-09
授权号 :
CN213287883U
授权日 :
2021-05-28
发明人 :
邝桂英马秉华李竹强刘连峰邝俊群
申请人 :
郴州华太科技有限责任公司
申请人地址 :
湖南省郴州市临武县工业园区纵一路008号
代理机构 :
北京众合诚成知识产权代理有限公司
代理人 :
王萌
优先权 :
CN202022233063.5
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02  B08B3/10  B08B13/00  F16J15/16  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-05-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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