一种等离子去胶机的保温构件
授权
摘要
本实用新型涉及保温防护技术领域，具体为一种等离子去胶机的保温构件，包括保温构件与保温组件；所述的保温构件固定连接在安装护板的内侧面上，且所述的保温组件的侧端与所述的安装护板的内壁密封连接，本实用新型通过在用于去胶机壳体制作的安装护板的内壁设置保温构件，在通过保温构件形成密闭空间时，通过内部设置的弧形凹槽以及弧形凹槽内部设置的岩棉层和弧形凹槽弧形表面设置的反射层，当内部热气流传递到保温构件的内壁时，热气流穿过绝热拦截网进入到弧形凹槽的表面，在弧形凹槽的内壁热气流通过反射形成回流，且通过内部设置的岩棉层使得热量不会通过弧形凹槽传递到安装护板，再向外扩散，从而提高安装护板保温效果。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子去胶机的保温构件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022435147.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-28
授权号 ：
CN213957836U
授权日 ：
2021-08-13
发明人 ：
钟兴进
申请人 ：
广州市鸿浩光电半导体有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市增城区新塘镇荔新十二路96号9幢103房
代理机构 ：
广州正驰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
洪安鹏
优先权 ：
CN202022435147.7
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42 B08B7/00 B08B13/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2021-08-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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