粒子分析装置的制造方法和粒子分析装置
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种粒子分析装置的制造方法，其中，所述粒子分析装置可抑制在作为测定对象的粒子的测定过程中其测定功能降低。一种粒子分析装置的制造方法，其中，所述粒子分析装置具有：第一贮留室(21)，其贮留第一液体；第二贮留室(22)，其贮留含有作为分析对象的粒子的第二液体；以及流路(40)，其连接第一贮留室(21)和第二贮留室(22)并进行流体流通，所述粒子分析装置的制造方法具有：表面改性工序，其对构成上述流路(40)的表面照射紫外线，从而对上述流路(40)的所述表面进行改性。
基本信息
专利标题 ：
粒子分析装置的制造方法和粒子分析装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114364974A
申请号 ：
CN202080063793.5
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吉富匠室田雄辉藤泽直广
申请人 ：
NOK株式会社
申请人地址 ：
日本东京都港区芝大门1丁目12番15号
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
鞠文军
优先权 ：
CN202080063793.5
主分类号 ：
G01N23/2273
IPC分类号 ：
G01N23/2273
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/227
测量光电效应，例如，光电子发射显微镜
G01N23/2273
测量光电子光谱，例如用于化学分析的电子光谱或X射线光电子能谱
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/2273
申请日 : 20200828
申请日 : 20200828
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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