测量系统
公开
摘要
一种用于扫描式检测测量值的测量系统，其中，该测量系统包括测量仪器，其中，该测量系统构造为能够布置在机器的运动轴上，其中，该机器构造为机床或构造为测量机，其中，使用该测量仪器能够对测量对象进行测量，其中，该测量仪器在对测量对象进行测量时产生测量值，其中，该测量系统包括监控单元，其中，该监控单元能够处理和存储所述测量值，其中，该测量系统具有存储单元，以便存储所检测到的测量值。该测量系统的特征在于，该测量系统构造为用于使第一测量值与布置在该机器上的测量仪器的第一位置坐标相关联，其中，该测量系统构造为用于从该第一测量值与该第一位置坐标的关联出发，通过以下方式来为由该测量仪器所检测到的另外的测量值唯一地分配位置坐标：在检测所述测量值期间或者在检测所述测量值时，所述测量仪器的运动速度和运动方向对于该测量系统是已知的。
基本信息
专利标题 ：
测量系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114424017A
申请号 ：
CN202080066529.7
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-07-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
C·维斯特
申请人 ：
M&H测量技术有限公司
申请人地址 ：
德国瓦尔德堡
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
郭毅
优先权 ：
CN202080066529.7
主分类号 ：
G01B11/00
IPC分类号 ：
G01B11/00 B23Q17/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
法律状态
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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