制造方法和测量方法
公开
摘要
本发明涉及一种光学元件的制造方法，其中，光学元件(2、52、61)具有的主体(18)具有基板(19、53、64)和反射表面(20、54、62)，并且其中，用于接收冷却剂(22)的至少一个冷却通道(21、45、46、47、56、57、58、59)形成在基板(19、53、64)中，并且其中，冷却通道(21、45、46、47、56、57、58、59)通过切割制造过程和/或通过蚀刻过程形成。
基本信息
专利标题 ：
制造方法和测量方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114631042A
申请号 ：
CN202080072750.3
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-10-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
H.M.斯蒂潘T.蒙兹J.卡勒U.勒林
申请人 ：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请人地址 ：
德国上科亨
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
王蕊瑞
优先权 ：
CN202080072750.3
主分类号 ：
G02B5/08
IPC分类号 ：
G02B5/08 G03F7/20 G01M11/00 G01B11/24 G01B9/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/08
反射镜
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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