采用EUV光刻的标准单元和电网架构
公开
摘要
描述一种用于创建芯片布置的系统和方法。在各种实施方案中，标准单元使用单向轨道进行电源连接和信号路由。将使用金属一层的最小宽度的所述金属一层的至少两个轨道放置在单个金属栅极的间距内，以提供具有二比一或更大“传动比”的标准单元。在同一金属一轨道中路由所述金属一层中的电源信号和接地参考信号，从而为其他信号路由提供区域。将多个标准单元放置在多单元布置中，其中金属二层和金属三层中的一个或多个中的路径使用最小长度进行电源连接。所述布置不包括具有固定间距的电网。
基本信息
专利标题 ：
采用EUV光刻的标准单元和电网架构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114586152A
申请号 ：
CN202080073422.5
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-08-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
理查德·T·舒尔茨
申请人 ：
超威半导体公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
李献忠
优先权 ：
CN202080073422.5
主分类号 ：
H01L27/02
IPC分类号 ：
H01L27/02 H01L27/118 G06F30/392 G06F30/394
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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