一种采用组合光阑的光刻方法
公开
摘要
本发明公开一种采用组合光阑的光刻方法，该方法包括如下步骤：设计所需的图形，并进行图形处理以形成图形位图；将图形位图生成n套数据文件；根据实际需求，确定光阑大小；将光阑分成k个子光阑文件；光刻，将n套数据文件与k个子光阑文件一一对应进行光刻，n＝k，其中，每次光刻前均完成一套数据文件与一个子光阑文件的对应。采用多套数据文件，对应多套子光阑文件嵌套光刻的方式对同一个光阑内进行光刻，使在一个光刻形成的子光阑文件内形成一个具有有不同角度或者周期的光栅组合，从而减少了边缘的锯齿，降低了数据量，提高了分辨率；并且通过这种方法，可以任意划分光阑，调整亮暗比例，可以产生更多的视觉效果。
基本信息
专利标题 ：
一种采用组合光阑的光刻方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114609871A
申请号 ：
CN202011421768.8
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-12-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
韩春芳杨颖刘晓宁伍新华
申请人 ：
苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
周志中
优先权 ：
CN202011421768.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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