采用CCD定位的光刻设备
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摘要
一种采用CCD定位的光刻设备，包括：传输机构、定位机构、投影机构和机箱，传输机构、定位机构和投影机构都位于所述机箱的内部，传输机构从机箱的前端延伸至后端，定位机构位于投影机构的前侧，投影机构位于机箱的后端；定位机构包括：至少两个滑块、至少两个CCD摄像头和定位导轨，CCD摄像头固定在在滑块上，滑块可移动地设置在定位导轨上。上述定位机构可以在光固化工艺之前确定电路板与传输板之间的相对位置以及电路板的尺寸，从而在光固化工艺的过程中保证线路图案投影到正确的位置。
基本信息
专利标题 ：
采用CCD定位的光刻设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921505271.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-11
授权号 ：
CN210199508U
授权日 ：
2020-03-27
发明人 ：
温伟华
申请人 ：
广东台名智能设备有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市厚街镇汴康西路2号3号楼101室
代理机构 ：
深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
钟斌
优先权 ：
CN201921505271.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-03-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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