防护膜、防护膜组件、碳纳米管网及其制造方法、碳纳米管膜、...
公开
摘要
提供一种能够实现由碳纳米管制成并且透射率的面内均一性优异的防护膜的技术。防护膜(12)包括：分别沿着第1方向(D1)延伸并且沿着径向排列的多个第1碳纳米管(1200a)、以及分别沿着与所述第1方向(D1)交叉的第2方向(D2)延伸并且沿着径向排列的多个第2碳纳米管(1200b)。
基本信息
专利标题 ：
防护膜、防护膜组件、碳纳米管网及其制造方法、碳纳米管膜、以及碳纳米管线及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114616520A
申请号 ：
CN202080075746.2
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2020-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高田直也关和范小寺豊
申请人 ：
凸版印刷株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
常海涛
优先权 ：
CN202080075746.2
主分类号 ：
G03F1/62
IPC分类号 ：
G03F1/62
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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