清洁抛光垫的设备和抛光装置
实质审查的生效
摘要
本发明涉及清洁抛光垫的设备和抛光装置，一种清洁抛光垫的设备包括：第一气体管嘴，该第一气体管嘴用于将气体喷射到抛光垫的孔；以及第一液体管嘴，该第一液体管嘴用于将液体喷射到抛光垫的孔。
基本信息
专利标题 ：
清洁抛光垫的设备和抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114536213A
申请号 ：
CN202110277797.X
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-03-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
曹志焕
申请人 ：
爱思开矽得荣株式会社
申请人地址 ：
韩国庆尚北道
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
寇毛
优先权 ：
CN202110277797.X
主分类号 ：
B24B37/34
IPC分类号 ：
B24B37/34
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/34
附件
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 37/34
申请日 : 20210315
申请日 : 20210315
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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