一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件
授权
摘要
本发明公开了一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件，包括基底，基底上方设有过渡层，过渡层上方设置一维铝纳米线栅，一维铝纳米线栅包括设置在过渡层上方的铝光栅层以及通过PMMA介质层嵌入铝光栅层中的三角形铝光栅，光线从基底向光栅方向入射。通过对各参数的调试，可使其在2‑20μm红外波段获得80％左右的透过率和90dB以上的偏振消光比，且透过率随波长变化波动较小，基本保持在80％～90％之间。在偏振成像、显示、医学应用、设备的小型化与集成化、光学存储和光通信等领域具有应用潜力。
基本信息
专利标题 ：
一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113204068A
申请号 ：
CN202110504416.7
公开（公告）日 ：
2021-08-03
申请日 ：
2021-05-10
授权号 ：
CN113204068B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
苏涛刘宇建钱沁宇王钦华
申请人 ：
扬州大学
申请人地址 ：
江苏省扬州市大学南路88号
代理机构 ：
南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴旭
优先权 ：
CN202110504416.7
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2021-08-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/30
申请日 : 20210510
申请日 : 20210510
2021-08-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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