考虑系统耦合特性的光刻机工件台调平调焦方法
授权
摘要
本发明公开了一种考虑系统耦合特性的光刻机工件台调平调焦方法，对光刻机工作台采用基于三点调平法的调平调焦系统，采用位置测量系统测量得到工作台的位置参数，通过预设的控制逻辑转换模型，转换得到三个运动轴的期望高度，计算得到三个运动轴的高度调节量，然后依次进行位置相关解耦和动力学相关解耦，得到解耦后的三个运动轴的高度调节量，输入运动轴控制系统对三个运动轴进行控制。本发明通过降低调平调焦系统各个运动轴之间的耦合，提高调平调焦的准确度。
基本信息
专利标题 ：
考虑系统耦合特性的光刻机工件台调平调焦方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113625533A
申请号 ：
CN202110847892.9
公开（公告）日 ：
2021-11-09
申请日 ：
2021-07-27
授权号 ：
CN113625533B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
彭超邹见效牛凡谢川于力
申请人 ：
电子科技大学
申请人地址 ：
四川省成都市高新区（西区）西源大道2006号
代理机构 ：
四川鼎韬律师事务所
代理人 ：
温利平
优先权 ：
CN202110847892.9
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-11-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20210727
申请日 : 20210727
2021-11-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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