一种双面光刻机工件台
授权
摘要
本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种双面光刻机工件台，包括XYY平台、固定安装在XYY平台上的下安装台以及位于下安装台上方的上安装台，上安装台安装在升降机构上，上安装台上安装有上掩膜版，下安装台上安装有下掩膜版；XYY平台和下安装台之间设有摄像头。本实用新型所提供的双面光刻机工件台，XYY平台先自动找平，然后上安装台下降直到上安装台和下安装台贴合，贴合后通过摄像头对上掩膜版和下掩膜版进行对位识别，如果没有对位成功，则通过XYY平台对下安装台进行微调直到对位成功，该工件台对位过程无需人工操作，可以有效提高对位的速度。
基本信息
专利标题 ：
一种双面光刻机工件台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122662473.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-01
授权号 ：
CN216622960U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
张其文扶小莲刘阳波陈正洪
申请人 ：
四川鸿源鼎芯科技有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市龙泉驿区龙泉车城东七路360号行政中心一楼3号
代理机构 ：
成都信捷同创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
左正超
优先权 ：
CN202122662473.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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