一种双面光刻机
授权
摘要

本实用新型属于光刻机技术领域,公开了一种双面光刻机,机架上设有第一机械臂,第一机械臂的外围沿圆周分布有上料工位、预对位工位、曝光工位和下料工位,上料工位处设有上料盒,预对位工位处设有预对位装置,曝光工位处设有工件台和曝光机构,下料工位处设有下料盒。本实用新型所提供的一种双面光刻机,通过机械臂实现硅片在各个工位的转运,硅片从上料盒取出后先放到预对位装置找到硅片的切边以及初步的定中心,然后再将硅片放到已经对好位的工件台上,曝光机构进行曝光,曝光后的硅片被取出放入到下料盒内,重复上述循环即可实现自动化的光刻作业。

基本信息
专利标题 :
一种双面光刻机
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122650405.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-11-01
授权号 :
CN216622959U
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
张其文扶小莲刘阳波陈正洪
申请人 :
四川鸿源鼎芯科技有限公司
申请人地址 :
四川省成都市龙泉驿区龙泉车城东七路360号行政中心一楼3号
代理机构 :
成都信捷同创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
左正超
优先权 :
CN202122650405.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  B25J15/06  B25J9/12  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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