本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种双面光刻机，机架上设有第一机械臂，第一机械臂的外围沿圆周分布有上料工位、预对位工位、曝光工位和下料工位，上料工位处设有上料盒，预对位工位处设有预对位装置，曝光工位处设有工件台和曝光机构，下料工位处设有下料盒。本实用新型所提供的一种双面光刻机，通过机械臂实现硅片在各个工位的转运，硅片从上料盒取出后先放到预对位装置找到硅片的切边以及初步的定中心，然后再将硅片放到已经对好位的工件台上，曝光机构进行曝光，曝光后的硅片被取出放入到下料盒内，重复上述循环即可实现自动化的光刻作业。