一体化结构真空灭弧室及其应用的真空开关
授权
摘要
一种一体化结构真空灭弧室及其应用的真空开关,所述一体化结构真空灭弧室包括静侧导电排、动侧导电导向一体的导电排、静侧盖板、静侧瓷壳、动侧瓷壳、动侧盖板,灭弧室内部的静触头、屏蔽罩、运动结构和触头结构一体化的动触头、与动触头相连接的动永磁盘;一体化结构真空开关,包括一体化结构真空灭弧室以及操动机构,操动机构由保持永磁体和缠绕在保持永磁体上的驱动线圈组成,并由开关底部壳体固定在真空灭弧室下方;驱动线圈的中通过的电流方向需与保持永磁体的极性匹配,实现对应的合闸保持和分闸保持功能。本发明在全真空环境绝缘设计的基础上,简化了真空灭弧室结构,避免了波纹管的使用,降低了运动质量。
基本信息
专利标题 :
一体化结构真空灭弧室及其应用的真空开关
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113593971A
申请号 :
CN202110881480.7
公开(公告)日 :
2021-11-02
申请日 :
2021-08-02
授权号 :
CN113593971B
授权日 :
2022-05-06
发明人 :
马慧陈金龙刘劭玮刘志远耿英三王建华闫静
申请人 :
西安交通大学
申请人地址 :
陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
代理机构 :
西安智大知识产权代理事务所
代理人 :
何会侠
优先权 :
CN202110881480.7
主分类号 :
H01H33/664
IPC分类号 :
H01H33/664 H01H33/666 H01H33/662
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/664
触点;灭弧装置,例如灭弧环
法律状态
2022-05-06 :
授权
2021-11-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01H 33/664
申请日 : 20210802
申请日 : 20210802
2021-11-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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