薄膜制造设备
公开
摘要
本发明涉及一种薄膜制造设备，包含：腔室，具有衬底的内部处理空间；衬底支撑件单元，连接到腔室以支撑腔室中的衬底；热源单元，连接到腔室且与衬底支撑件单元相对安置；等离子产生单元，连接到腔室的一侧以在衬底支撑件单元与热源单元之间供应自由基；以及挡板，连接到腔室且其中包含自由基的移动信道和与移动信道连通的多个第一排出孔，所述多个第一排出孔形成于其顶表面中。薄膜制造设备可改良形成于衬底上的薄膜的均一性。
基本信息
专利标题 ：
薄膜制造设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114388331A
申请号 ：
CN202111215883.4
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-10-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李昞日金昌敎权昶珉兪承沅
申请人 ：
AP系统股份有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道华城市东滩面东滩产团8便道15-5
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
马爽
优先权 ：
CN202111215883.4
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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