电熔丝单元阵列的版图布局方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种电熔丝单元阵列的版图布局方法，包含：电熔丝单元对结构，其包含，二个电熔丝单元；第一电熔丝单元中包含第一晶体管和第一电熔丝单元；第二电熔丝单元中包含第二晶体管和第二电熔丝单元；第一电熔丝单元跨接在第一晶体管和第二晶体管上；第二电熔丝单元跨接在第二晶体管和第一晶体管上。据此，本发明能够达到的技术效果在于，能够在各项性能不变的情况下比现有技术的版图面积减小。
基本信息
专利标题 ：
电熔丝单元阵列的版图布局方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114357926A
申请号 ：
CN202111446221.8
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张黎晏颖
申请人 ：
上海华力集成电路制造有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室
代理机构 ：
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 ：
顾浩
优先权 ：
CN202111446221.8
主分类号 ：
G06F30/392
IPC分类号 ：
G06F30/392
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/392
平面规划或布局，例如,分区或放置
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/392
申请日 : 20211130
申请日 : 20211130
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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