一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法
实质审查的生效
摘要
本发明属于干涉成像光谱仪相对辐射校正方法,为解决在轨运行中,通常利用大量数据对整幅图像进行直方图匹配,进而对探测器不均一性进行校正,但这种方法仅适用于滤光片和分光的成像模式,对干涉成像光谱仪获取的叠加干涉条纹数据并不适用的技术问题,提供一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法,利用大量在轨运行数据对不同光程差位置像元灰度值分别进行直方图统计,并利直方图匹配算法建立各光程差下相对辐射校正灰度值映射查找表,实现干涉成像光谱仪的在轨相对辐射校正,能够完成带有干涉条纹的干涉型成像光谱仪数据的相对辐射校正,避免干涉条纹对在轨相对辐射校正的影响。
基本信息
专利标题 :
一种基于直方图匹配的干涉成像光谱仪相对辐射校正方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114387172A
申请号 :
CN202111446702.9
公开(公告)日 :
2022-04-22
申请日 :
2021-11-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈铁桥冯向朋李海巍张耿王爽刘学斌李思远苏秀琴刘佳王一豪刘杰
申请人 :
中国科学院西安光学精密机械研究所
申请人地址 :
陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号
代理机构 :
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 :
赵逸宸
优先权 :
CN202111446702.9
主分类号 :
G06T5/00
IPC分类号 :
G06T5/00 G06T5/40 G06V10/74 G06K9/62
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T5/00
图像的增强或复原
法律状态
2022-05-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06T 5/00
申请日 : 20211130
申请日 : 20211130
2022-04-22 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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