用于产生等离子体的设备、用于控制该设备的方法以及包括该设...
公开
摘要
公开了一种用于处理基板的设备，该设备可以包括：其中具有用于处理基板的空间的腔室；在腔室中支撑基板的支撑单元；将气体供应到腔室中的气体供应单元；以及将腔室中的气体激发成等离子体状态的等离子体产生单元，其中所述等离子体产生单元可以包括：高频电源；第一天线；第二天线；以及匹配器，所述匹配器连接在高频电源与第一及第二天线之间，其中所述匹配器可以包括向第一和第二天线分配电流的电流分配器，并且所述电流分配器包括：设置在第一天线与第二天线之间的第一电容器；与第二天线串联连接的第二电容器；以及与第二天线并联连接的第三电容器，其中第一电容器和第二电容器可以被提供为可变电容器。
基本信息
专利标题 ：
用于产生等离子体的设备、用于控制该设备的方法以及包括该设备的用于处理基板的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114597110A
申请号 ：
CN202111515968.4
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2021-12-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
O·嘉尔斯蒂安S·阿拉克良金荣斌奉允根安宗焕
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
钟锦舜
优先权 ：
CN202111515968.4
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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