一种基于明暗场和结构光检测的缺陷检测系统
实质审查的生效
摘要

本发明涉及一种基于明暗场和结构光检测的缺陷检测系统,包括上位机模块、结构光检测模块、明暗场检测模块和传输模块,传输模块连接结构光检测模块和明暗场检测模块,上位机模块执行以下指令:当待测镜片放置于结构光检测模块中时,控制投射装置将正弦条纹图案投射到待测镜片上,并控制一号采集设备采集结构光图像;对结构光图像进行相位分析,获取相位图;根据相位图,获取相位图中具有深度信息的缺陷位置;并将缺陷位置在待测镜片对应位置进行标注;控制传输模块将标注的位置移动至明暗场检测模块的二号采集设备正下方;控制二号采集设备采集明暗场图像。与现有技术相比,本发明具有检测精确度高等优点。

基本信息
专利标题 :
一种基于明暗场和结构光检测的缺陷检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114264664A
申请号 :
CN202111583315.X
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2021-12-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
韦晓孝王臻磊万新军
申请人 :
上海理工大学
申请人地址 :
上海市杨浦区军工路516号
代理机构 :
上海科盛知识产权代理有限公司
代理人 :
陈源源
优先权 :
CN202111583315.X
主分类号 :
G01N21/88
IPC分类号 :
G01N21/88  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/88
申请日 : 20211222
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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