单面缺陷分析设备及缺陷检测和分析系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种单面缺陷分析设备及缺陷检测和分析系统，包括：承载台，适于承载水平状态的产品；接收单元，用于从产品的检测设备接收产品的表面图像；面阵相机，对着产品的第一表面设置，用于定位到产品上由表面图像所指示的缺陷位置，且拍摄缺陷的缺陷图像，缺陷图像的质量高于表面图像的质量；以及驱动机构，用于驱动面阵相机沿着产品的第一表面移动。
基本信息
专利标题 ：
单面缺陷分析设备及缺陷检测和分析系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921327430.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-14
授权号 ：
CN211576999U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
孙平
申请人 ：
笪萨科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市徐汇区桂平路471号9号楼504室
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
骆希聪
优先权 ：
CN201921327430.9
主分类号 ：
G01N21/898
IPC分类号 ：
G01N21/898 G01N21/13 B07C5/342
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/89
在移动的材料中，例如，纸张、织物中
G01N21/892
特征在于待测的瑕疵、缺陷或物品的特点
G01N21/898
纹理或图案表面中的不规则物
法律状态
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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