原子层沉积反应气体的制备机构及其制备方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种原子层沉积反应气体的制备机构及其制备方法,制备机构包括:反应源、载气源和反应气体罐,所述反应源内可操作地储有原子层沉积反应液;所述载气源通过载气管道与所述反应源连通,所述载气管道可操作地插入所述反应液内;所述反应气体罐与所述反应源连通,所述反应气体罐能够密封。本发明提供了一种原子层沉积反应气体的制备机构,该机构包括:反应源和反应气体罐,反应源内的反应气体被载气携带进入反应气体罐内,反应气体和载气在反应气体罐内被密封。当小型实验室需要对原子层沉积反应进行实验时,可以仅仅购买一罐反应气体罐,将反应气体罐接入原子层沉积反应室上,就能够进行原子层沉积实验。
基本信息
专利标题 :
原子层沉积反应气体的制备机构及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114438476A
申请号 :
CN202111590788.2
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
周向前
申请人 :
周向前
申请人地址 :
上海市嘉定区城北路1355号上海大学国家科技园嘉定基地A栋1029室
代理机构 :
上海上谷知识产权代理有限公司
代理人 :
胡五荣
优先权 :
CN202111590788.2
主分类号 :
C23C16/448
IPC分类号 :
C23C16/448 C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法,例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/448
申请日 : 20211223
申请日 : 20211223
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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