一种基于SOI工艺的MEMS六轴力传感器芯片及其制备方法
实质审查的生效
摘要

一种基于SOI工艺的MEMS六轴力传感器芯片及其制备方法,芯片由SOI器件层和玻璃器件层键合组成;SOI器件层包括顶层硅结构、埋氧层结构和衬底层硅结构;顶层硅结构包括第一中心质量块,第一中心质量块通过蟹腿型梁和顶层边框连接,顶层边框和中心质量块之间设有梳齿电容;埋氧层结构包括释放区和非释放区;衬底层硅结构包括第二中心质量块,第二中心质量块通过T型梁和衬底层边框连接,第二中心质量块中部设有安装腔体,外部的载荷传递立柱安装于安装腔体当中,将力/力矩传递到第二中心质量块;本发明实现六轴力的解耦检测,易于电路集成;以SOI晶圆和玻璃圆片为基础,结合光刻、浅刻蚀等工艺实现芯片的制备,工艺简单,易于批量制造。

基本信息
专利标题 :
一种基于SOI工艺的MEMS六轴力传感器芯片及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114323395A
申请号 :
CN202111595510.4
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
赵立波谭仁杰高文迪韩香广卢德江王路李敏董林玺杨萍林启敬蒋庄德
申请人 :
西安交通大学;杭州电子科技大学
申请人地址 :
陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
代理机构 :
西安智大知识产权代理事务所
代理人 :
贺建斌
优先权 :
CN202111595510.4
主分类号 :
G01L5/165
IPC分类号 :
G01L5/165  G01L1/14  B81B7/02  B81B7/00  B81C1/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L5/165
利用电容的改变
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01L 5/165
申请日 : 20211223
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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