基于深矢高工件的内壁测量系统以及测量方法
实质审查的生效
摘要

本发明属于涉及一种深矢高工件内壁全面形测量方法,具体涉及一种使用双传感器对内壁不同区域分别测量进而进行面形拼接的深矢高工件内壁全面形测量方案与测量系统,包括:水平底座,其上设有XY定位平台,XY定位平台包括X方向移动的X向运动平台以及Y方向移动的Y向运动平台;转台,设置在XY定位平台上,用于绕Z向旋转;工件座,设置在所述转台上,用于放置深矢高工件;竖直底座,其上设有Z方向移动的Z向运动平台;侧向计,设置在所述Z向运动平台上,用于对深矢高工件的内壁侧壁进行测量;以及轴向计,设置在所述Z向运动平台上用于对深矢高工件的内壁底壁进行测量。本专利结合侧向计与轴向计对深矢高工件进行内壁壁形的测量,该测量结构以及测量方式不受光纤影响,且针对各种尺寸不同的深矢高工件均可以达到测量目的。

基本信息
专利标题 :
基于深矢高工件的内壁测量系统以及测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114279301A
申请号 :
CN202111619678.4
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈远流胡朋居冰峰
申请人 :
浙江大学
申请人地址 :
浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
代理机构 :
杭州易中元兆专利代理有限公司
代理人 :
张安心
优先权 :
CN202111619678.4
主分类号 :
G01B5/20
IPC分类号 :
G01B5/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B5/00
以采用机械方法为特征的计量设备
G01B5/20
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 5/20
申请日 : 20211227
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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