测量系统及其测量方法
授权
摘要
本发明提供一种测量系统，包含:主控装置以及多个测量工作站。每个测量工作站各自与主控装置连接，且各自对应一待测元件；其中，测量工作站根据主控装置的指令而同时对所对应的待测元件进行共同项目测量程序，且测量工作站还依照所对应的待测元件的需求而各自进行可调整测量项目的特定需求项目测量程序，其中至少两个特定需求项目测量程序的部分进行期间会重叠。
基本信息
专利标题 ：
测量系统及其测量方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110161977A
申请号 ：
CN201810150393.2
公开（公告）日 ：
2019-08-23
申请日 ：
2018-02-13
授权号 ：
CN110161977B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
林祐瑄刘大纲
申请人 ：
京元电子股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市公道五路二段81号
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
任岩
优先权 ：
CN201810150393.2
主分类号 ：
G05B19/418
IPC分类号 ：
G05B19/418
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05B
一般的控制或调节系统；这种系统的功能单元；用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B19/00
程序控制系统
G05B19/02
电的
G05B19/418
全面工厂控制，即集中控制许多机器，例如直接或分布数字控制、柔性制造系统、集成制造系统、计算机集成制造
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2019-09-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G05B 19/418
申请日 : 20180213
申请日 : 20180213
2019-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN110161977A.PDF
PDF下载
