一种测量系统和测量方法
公开
摘要

本发明提供了一种测量系统和测量方法,包括:光发射模块,用于产生泵浦光和探测光,泵浦光沿第一光路入射到待测物表面形成第一光斑,并使待测物中形成声波,探测光沿第二光路入射到待测物表面形成第二光斑,探测光被待测物反射后形成信号光;光调制模块,用于使第一光斑和第二光斑中尺寸较小者在尺寸较大者的光斑区域内扫描;光探测模块,用于探测尺寸较大者的光斑区域内多个点处的信号光,根据信号光获得多个点的初始待测信息,根据多个初始待测信息得到尺寸较大者的光斑区域内的待测信息。由于尺寸较大者的光斑区域内的待测信息可以为多个点处初始待测信息的平均值、中位数等,因此,可以减小待测物表面粗糙引起的检测误差,提高测量的精确度。

基本信息
专利标题 :
一种测量系统和测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114608456A
申请号 :
CN202011431183.4
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2020-12-07
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈鲁白园园马砚忠张嵩
申请人 :
深圳中科飞测科技股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区上横朗第四工业区2号101、201、301
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
刘猛
优先权 :
CN202011431183.4
主分类号 :
G01B11/06
IPC分类号 :
G01B11/06  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
G01B11/06
用于计量厚度
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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