干涉共聚焦测量系统及测量方法
授权
摘要

本发明提供一种干涉共聚焦测量系统及测量方法,测量系统包括第一测量单元和第二测量单元,所述第一测量单元包括发出特定波长范围的宽光谱光源组件、第一分束镜、色散物镜、信号接收组件;所述第二测量单元包括单波长的激光光源、扩束镜、第二分束镜、移相器、反射镜、光电探测器、第三分束镜、位于色散物镜中心光轴上的光阑。本发明通过逐级测量,第一测量单元实现粗测,确定干涉级次;第二测量单元实现精测,保证单波长测量精度的同时,扩展了干涉共聚焦测量系统的工作范围。

基本信息
专利标题 :
干涉共聚焦测量系统及测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113587843A
申请号 :
CN202110849407.1
公开(公告)日 :
2021-11-02
申请日 :
2021-07-27
授权号 :
CN113587843B
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
王建立糜小涛王之一杨永强明名陈宝刚张玉良陈琦
申请人 :
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 :
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
代理机构 :
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
高一明
优先权 :
CN202110849407.1
主分类号 :
G01B11/24
IPC分类号 :
G01B11/24  G01B9/02  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2022-05-27 :
授权
2021-11-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/24
申请日 : 20210727
2021-11-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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